Desktop Plasma Equipment

Table-top units are designed for laboratories, single or small-scale production. Depending on the configuration, they can perform etching, activation or cleaning procedures. All machine versions are equipped with a touch screen with the possibility of creating automated part programs. Process parameters can be saved on a flash drive, which is connected via a USB port.

The characteristics of the serially offered line of equipment are presented in the tables.

The units are assembled by 90% from the Russian component base, and are also equipped with proprietary software. That is why: Any modification of the equipment under the customer's specification is possible! In addition, our team of technologists can develop programs for processing your products or provide you with technical advice and training on plasma processes.

Линейка — копия.png

Specifications

Модель	MPC LF-2	MPC RF-2	MPC LF-5	MPC RF-5	MPC LF-12	MPC RF-12	MPC LF-24	MPC RF-24
Chamber volume	2 л		5 л		12 л		24 л
Chamber size ВхШхД	∅ 100 х 280 мм 100 х 100 х 280 мм	∅ 100 х 280 мм	∅ 150 х 290 мм 130 х 130 х 290 мм	∅ 150 х 290 мм	∅ 225 х 300 мм 200 х 200 х 300 мм		∅ 270 х 420 мм 240 х 240 х 420 мм
Chamber materials	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь	Кварцевое стекло	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь	Кварцевое стекло	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь		Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь
Electrodes	Снаружи/Внутри вакуумной камеры	Снаружи вакуумной камеры	Снаружи/Внутри вакуумной камеры	Снаружи вакуумной камеры	Снаружи/Внутри вакуумной камеры		Снаружи/Внутри вакуумной камеры
Generator	LF	RF	LF	RF	LF	RF	LF	RF
Frequency	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц
Power (max)	100 Вт	50 Вт	150 Вт	100 Вт	200 Вт	200 Вт	500 Вт	300 Вт
Gas, units	1 (2)		2 (3)
Gas adjustment	Цифровой РРГ
Connection (to add)	Накидная гайка 6/4 (Hy-lok ∅6 )
Screen	7ʺ, цветной, емкостной
Фланец для ПЭМ держателя	Опционально				-
Electriсity	230В, 0,9 кВт	230В, 0,8 кВт	230В, 1 кВт	230В, 0,9 кВт	230В, 1 кВт	230В, 1 кВт	230В, 1,3 кВт	230В, 1,1 кВт
Size, hbl	255 х 520 х 460 мм		260 х 560 х 470 мм		355 х 570 х 730 мм		560 х 500 х 740 мм
Weight	~ 25 кг		~ 30 кг		~ 35 кг		~ 45 кг
Pump (to add)	Отсутствует (пластинчато-роторный / спиральный)
Pump speed	не менее 3,0 м3/ч		не менее 6,0 м3/ч				не менее 10,0 м3/ч
Pressure, min	Менее 1·10-1 мбар

Application area

etching/plasma pickling of oxidized metallization layers;;
etching of thin films;
cleaning of organic pollution;
cleaning of temperature-dependent elements (for example, films, plastic products);
removal of residues of previous samples from substrates and slides;
reduction of the roughness of the subject bases;
removal of photoresist, etc.

Desktop Plasma Equipment

Specifications

Application area

See also