Напольные установки плазменной обработки, очистки поверхности материалов

Установки плазменной очистки и обработки напольного типа

Установка плазменной обработки, очистки MPC Плазменные установки напольного типа предназначены для мелкосерийных, крупносерийных, массовых производств. Установки в базовой версии оснащены сенсорным экраном и программируемым софтом с возможностью написания технологических процессов. Для сохранения и переноса данных о выполнении технологического процесса установка оснащена USB входом.

Напольные установки плазменной обработки являются разработкой GN electronics (GN tech) и состоят на 90% из российской элементной базы. Типовые характеристики серийно поставляемого оборудования указаны в таблице.

Возможна работка оборудования под ТЗ заказчика.

Подробнее с модельным рядом вакуумного оборудования можно ознакомиться на официальном сайте компании GN tech https://gn-tech.ru

Характеристики

Модель	MPC LF-24	MPC RF-24	MPC LF-50	MPC RF-50	MPC LF-75	MPC RF-75	MPC LF-100	MPC RF-100
Объем камеры	24 л		50 л		75 л		100 л
Размеры камеры ВхШхД	∅ 270 x 420 мм 240 х 240 х 420 мм	∅ 270 x 420 мм 240 х 240 х 420 мм	∅ 350 х 550 мм 350 х 350 х 625 мм	∅ 350 х 550 мм 350 х 350 х 625 мм	400 х 400 х 500 мм		400 х 400 х 625 мм
Материал камеры	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь	Нержавеющая сталь		Нержавеющая сталь
Расположение электродов	Снаружи/Внутри вакуумной камеры	Снаружи вакуумной камеры	Снаружи/Внутри вакуумной камеры	Снаружи вакуумной камеры	Снаружи/Внутри вакуумной камеры		Снаружи/Внутри вакуумной камеры
Тип сигнала	НЧ	ВЧ	НЧ	ВЧ	НЧ	ВЧ	НЧ	ВЧ
Частота генератора	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц
Максимальная мощность генератора	500 Вт	500 Вт	500 Вт	500 Вт	1000 Вт	1000 Вт	1000 Вт	1000 Вт
Кол-во газов (опция)	2 (3, 4)		2 (3, 4)	2 (3, 4)	2 (3, 4)	2 (3, 4)	2 (3, 4)	2 (3, 4)
Тип регулировки газов	Цифровой РРГ
Подключение газов	Накидная гайка 6/4 (Hy-lok ∅6 )
Экран	13,3ʺ, цветной, емкостной
Фланец для ПЭМ держателя	Опционально				-
Питание	380 В, 2 кВт	380 В, 2 кВт	380 В, 2 кВт	380 В, 2 кВт	380 В, 2 кВт	380 В, 2 кВт	380 В, 2 кВт	380 В, 2 кВт
Габариты ВхШхД	1700 х 850 х 800 мм		1700 х 850 х 800 мм		1900 х 1050 х 900 мм		1900 х 1050 х 900 мм
Масса	~ 200 кг		~ 200 кг		~ 270 кг		~ 270 кг
Вакуумный насос	пластинчато-роторный / спиральный
Быстрота действия насоса	не менее 10,0 м3/ч		не менее 10,0 м3/ч				не менее 10,0 м3/ч
Предельный вакуум насоса	Менее 1·10-1 мбар

Область применения

травление/плазменное декапирование окисленный слоев металлизации;
травление тонких пленок;
очистка органических загрязнений;
очистка термозависимых элементов (например, пленок, пластиковых изделий);
удаление остатков предыдущих проб с подложек и предметных стекол;
уменьшение шероховатости предметных оснований;
удаление фоторезиста и др.

Смотрите также

MPC-D Установки настольного типа

MPC-F Установки напольного
типа

Технологии плазменной обработки