Настольные установки плазменной обработки, очистки, активации, травления поверхности материалов MPC

Установки плазменной очистки и обработки настольного типа

Настольная установка плазменной обработки, очистки, активации MPC

Установки плазменной очистки настольного типа предназначены для лабораторий, единичного или мелкосерийного производства. В зависимости от комплектации могут выполнять процедуры травления, активации или очистки. Все версии настольной установки оснащены сенсорным дисплеем с возможностью создания автоматизированных программ обработки деталей. Параметры процессов можно сохранять на флеш-носителе, который подключается с помощью USB порта.

Стандартный модельный ряд установок включает в себя 4 модели MPC-2, MPC-5, MPC-12 и MPC-24. Номер соответствует объему рабочей камеры в литрах.

Настольные установки плазменной очистки собраны на 90% из Российской компонентной базы, а также оснащены софтом собственно разработки. Именно поэтому: Возможна любая модификация оборудования под ТЗ заказчика! Кроме того наша команда технологов может разработать программы для обработки Ваших изделий или обеспечить Вам технические консультации и учебы по плазменным процессам.

Подробнее с модельным рядом вакуумного оборудования можно ознакомиться на новом официальном сайте компании GN tech https://gn-tech.ru

Линейка — копия.png

Характеристики

Модель	MPC LF-2	MPC RF-2	MPC LF-5	MPC RF-5	MPC LF-12	MPC RF-12	MPC LF-24	MPC RF-24
Объем камеры	2 л		5 л		12 л		24 л
Размеры камеры ВхШхД	∅ 100 х 280 мм 100 х 100 х 280 мм	∅ 100 х 280 мм	∅ 150 х 290 мм 130 х 130 х 290 мм	∅ 150 х 290 мм	∅ 225 х 300 мм 200 х 200 х 300 мм		∅ 270 х 420 мм 240 х 240 х 420 мм
Материал камеры	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь	Кварцевое стекло	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь	Кварцевое стекло	Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь		Кварцевое стекло / Нержавеющая сталь
Расположение электродов	Снаружи/Внутри вакуумной камеры	Снаружи вакуумной камеры	Снаружи/Внутри вакуумной камеры	Снаружи вакуумной камеры	Снаружи/Внутри вакуумной камеры		Снаружи/Внутри вакуумной камеры
Тип сигнала	НЧ	ВЧ	НЧ	ВЧ	НЧ	ВЧ	НЧ	ВЧ
Частота генератора	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц	40 кГц / 80 кГц	13,56 МГц
Максимальная мощность генератора	100 Вт	50 Вт	150 Вт	100 Вт	200 Вт	200 Вт	500 Вт	300 Вт
Кол-во газов (опция)	1 (2)		2 (3)	2 (3)	2 (3)	2 (3)	2 (3)	2 (3)
Тип регулировки газов	Цифровой РРГ
Подключение газов	Накидная гайка 6/4 (Hy-lok ∅6 )
Экран	7ʺ, цветной, емкостной
Фланец для ПЭМ держателя	Опционально				-
Питание	230В, 0,9 кВт	230В, 0,8 кВт	230В, 1 кВт	230В, 0,9 кВт	230В, 1 кВт	230В, 1 кВт	230В, 1,3 кВт	230В, 1,1 кВт
Габариты ВхШхД	255 х 520 х 460 мм		260 х 560 х 470 мм		355 х 570 х 730 мм		560 х 500 х 740 мм
Масса	~ 25 кг		~ 30 кг		~ 35 кг		~ 45 кг
Вакуумный насос	пластинчато-роторный / спиральный
Быстрота действия насоса	не менее 3,0 м3/ч		не менее 6,0 м3/ч				не менее 10,0 м3/ч
Предельный вакуум насоса	Менее 1·10-1 мбар

Область применения

травление/плазменное декапирование окисленный слоев металлизации;
травление тонких пленок;
очистка органических загрязнений;
очистка термозависимых элементов (например, пленок, пластиковых изделий);
удаление остатков предыдущих проб с подложек и предметных стекол;
уменьшение шероховатости предметных оснований;
удаление фоторезиста и др.

Смотрите также

MPC-D Установки настольного типа

MPC-F Установки напольного
типа

Технологии плазменной обработки