Керамические подложки на основе нитрида кремния (Si3N4)

Si3N4 Нитрид кремния
  • Верхнее описание
    550.png

    Нитрид кремния [Si3N4] - керамика, особенности которой заключается в ее повышенных прочностных характеристиках и повышенной износостойкости, относительно других типов керамических материалов. Поэтому наилучшим образом применяется в структурах, где необходима высокая прочность изделия и его устойчивость к высоким перепадам температур.

    Благодаря своим механическим показателям, изделия изготовленные с использованием нитрида кремния, отлично выдерживают условия длительного термоциклирования, ударам, испытания при усиленном трении, а также взаимодействие с агрессивными средами.


  • Таблица характеристик

    Свойства

    Материал

    Si3N4

    Цвет

    Серый

    Объемная плотность

    г/см3

    ≥ 3,20

    Шероховатость шлифованной поверхности (Ra)

    мкм

    Шероховатость полированной поверхности (Ra)

    мкм

    Ra 0,05

    Механические характеристики

    Прочность на изгиб

    МПа

    900

    Прочность на сжатие

    МПа

    2500

    Модуль упругости

    ГПа

    315

    Твердость по Виккерсу

    ГПа

    Вязкость разрушения

    7,5

    Физические характеристики

    Коэффициент теплового расширения (25-1000°C)

    10 -6 /°C

    3,1

    Теплопроводность (25°C)

    Вт/м∙°K

    19

    Удельная теплоемкость

    Дж/кг*К

    3,1

    Сопротивление тепловому удару

     С

    800

    Максимальная температура эксплуатации

    С

    1400

    Диэлектрическая прочность

    15

    Объемное сопротивление (25 С)

    ≥ 1014

    Диэлектрическая постоянная (1 МГц)

    -

    9,0 - 10,0

    Диэлектрические потери (1МГц, 25°C)

    ∙10 -4

    4

    Технологические характеристики

    DBC технология

    -

    Толстопленочная технология

    -

    Тонкопленочная технология

    Новый проект (50).png


  • Нижнее описание

    Создаваемые платы на основе керамики нитрида или карбида кремния находят свое применение в следующих областях:

    • в качестве изолятора;

    • изготовления запоминающих устройств;

    • производство интегральных схем;

    • более надежная и прочная альтернатива для оксида алюминия (Al2O3);

    • основание для изготовления плат высокомощной электроники;

    • подложки для датчиков, электронных приборов, которые эксплуатируются в условиях воздействия агрессивных сред и т.д.

Керамические подложки на основе нитрида кремния (Si3N4)